端口残留（PER）清洁剂

针对传统和高K介电残留物的普遍兼容后蚀刻后残留物清洁配方的研究。

Techniclean IK73是专门配制的，以选择性去除高渗透性化学残基在高k介电金属氧化物（包括hafnium，锆和坦塔尔氧化物）中产生的高度进入化学残基。Techniclean IK73在室温下运行良好，并且很容易冲洗。该过程适用于沉浸式，批处理和单滤器化学应用。

Techniclean CA25是一种半水，已制定的，旨在解决所有互连和技术节点的捏合式蚀刻（PER）清除后的蚀刻后残基（PER）。这种先进的残留清洁剂提供了独特的成分，这些成分被证明在快速，有选择地从以下材料中去除有机金属氧化物非常有效：Al，Cu，Ti，Ti，Tin，W和Ni。

Techniclean CA25旨在为表面润湿，降低电势，螯合能力和残留溶解度提供最佳的平衡，以在低温和较短的处理时间（例如线，VIAS和PADS）下完成每次溶解的完整平衡。