高纯度湿化学品*
技术半导体制造产品线包括广泛的范围超高纯度湿化学品包含酸,,,,基地,,,,溶剂和过氧化氢。基于专有的专有纯化技术,技术将各种活性成分和解决方案商业化为PPT水平。这项特殊技术具有技术优势和高过程灵活性,允许以竞争性价格为IC制造商以各种纯度等级。
*请注意,高纯度湿化学品仅在欧洲可用。

酸
在大多数半导体加工系统中,正确制造硅芯片需要酸。Technic专门为半导体行业生产了全范围的纯酸化学。我们的高质量可以保证客户一致和卓越的成果。
可用的酸
- 醋酸
- 柠檬酸
- 盐酸
- 氢氟酸
- 乳酸
- 硝酸
- 草酸
- 磷酸
- 硫酸
根据要求稀释
可用等级:XLSI MR
可用包装:1L到isotank

基地
在大多数半导体处理系统中,正确制造硅芯片需要基础。Technic专门为半导体行业制造了全范围的纯基化学。我们的高质量可以保证客户一致和卓越的成果。
可用的基地
- 氢氧化铵
- 氢氧化钾稀释(KOH)
- 氢氧化钠稀释(NAOH)
- 专业胺
- tmah
- 茶
- 茶
根据要求稀释
可用等级:XLSI MR
可用包装:1L到isotank

溶剂
Technic的电子级溶剂在整个半导体行业中都使用:Technic提供多种高纯度溶剂来满足您的特定应用需求。
可用的溶剂
- 丙酮
- 乙酸丁酯
- 环己酮
- 环戊酮
- 二甲基硫氧基(DMSO)
- 乙醇99.9%
- 乙基3-乙氧基丙酸(EEP)
- 乙酸乙酯
- 乙酸乙酯
- 乙烯糖
- 伽马丁乳元
- 六甲硅烷(HMD)
- 甲醇
- 甲基异丁基酮(MIBK)
- 甲基柠檬酮(MEK)
- N-甲基吡咯烷酮(NMP)
- PGME
- PGMEA
- 丙醇-2(IPA)
根据要求稀释
可用等级:XLSI MR
可用包装:1L到isotank

氢过滤
过氧化氢混合物(APM)广泛用于从半导体制造中的底物表面去除颗粒。Technic提供标准和定制的高纯度过氧化氢解决方案,以满足每个客户的要求。
可用的氢过滤
- H202 30%VLSI
- H202 30%ULSI
- H202 30%SLSI
- H202 30%XSLSI
可根据要求提供的其他浓度
根据要求稳定
可用包装(根据化学物质):1磅至isotank