新的高度选择性和多才多艺的后蚀刻残留物清洁剂

美国RI Cranston- Technic宣布发布Techniclean IK73，这是一种后蚀刻残留物清洁剂，具有出色的去除性能和对关键材料的选择性。

Techniclean IK73是专门配制的，以选择性去除高渗透性化学残基在高k介电金属氧化物（包括hafnium，锆和坦塔尔氧化物）中产生的高度进入化学残基。Techniclean IK73在室温下运行良好，并且很容易冲洗。该过程适用于沉浸式，批处理和单滤器化学应用。

Techniclean IK73已经获得了资格，并且在全球领先的半导体制造商的全面生产中。消除一些最艰难的后蚀刻残留物的能力使Techniclean IK73成为高级半导体制造过程的必不可少的产品。

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