Technic宣布发行Technistrip®MicroD2

基于NMP的光震脱剥离器的非危害替代品。

美国RI的克兰斯顿 - 由于N-甲基吡咯烷酮（NMP）作为备病毒毒素，Technic越来越关注和法规，因此开发了一种新的Photoresist脱衣舞娘，没有NMP，无法实现更高的性能，而无需提高成本。Technistrip®MicroD2是一种环保的，非危害的溶液，用于特殊开发的有机溶剂，其运行成本与基于NMP的脱衣舞娘类似。

Technistrip®MicroD2在全球大量生产测试中提供了更好的溶解和更快的升降机。Technistrip®MicroD2还提供了更大的金属和材料兼容性，从而可以在所有堆栈中，尤其是在敏感材料（例如III/V底物）上使用。

Technistrip®MicroD2目前正在全球范围内生产大量生产，并用于各种应用中，包括去除负面和正面抗性，返工，并用作胶粘剂和胶水的清洁剂。

Technic是半导体行业的高级化学解决方案和控制措施的全球供应商。该公司以Techniclean的名称，Technerip的名称制造了一系列清洁工，光陶器脱衣舞娘和金属蚀刻剂^®和技术。Technic还制造了在高架下销售的制造和包装化学反应^®品牌。